加氫反應釜價格
加氫反應釜是各種易燃、易爆、有毒、貴重等介質在高溫、高壓、高真空等條件下進行攪拌反應的優(yōu)選設備，加氫反應釜它從根本上解決了以前填料密封、機械密封無法克服的軸封泄漏問題，無任何泄漏和污染，使用壽命長、免維修。
簡單介紹加氫反應釜價格
加氫反應釜系氣--液、液--液、液--固或氣--液--固三相化工物料進行化學反應的攪拌反應裝置，加氫反應釜可使各種化工物料在較高的壓力、溫度、高真空等條件下充分攪拌，以強化傳質和傳熱過程，加氫反應釜是各種易燃、易爆、有毒、貴重等介質在高溫、高壓、高真空等條件下進行攪拌反應的優(yōu)選設備，加氫反應釜它從根本上解決了以前填料密封、機械密封無法克服的軸封泄漏問題，無任何泄漏和污染，使用壽命長、免維修。
加氫反應釜 的詳細介紹加氫反應釜價格
加氫反應釜系氣--液、液--液、液--固或氣--液--固三相化工物料進行化學反應的攪拌反應裝置，加氫反應釜可使各種化工物料在較高的壓力、溫度、高真空等條件下充分攪拌，以強化傳質和傳熱過程，加氫反應釜是各種易燃、易爆、有毒、貴重等介質在高溫、高壓、高真空等條件下進行攪拌反應的優(yōu)選設備，加氫反應釜它從根本上解決了以前填料密封、機械密封無法克服的軸封泄漏問題，無任何泄漏和污染，使用壽命長、免維修。加氫反應釜釜體材料可采用碳錳鋼、各種牌號的不銹鋼、鈦及鈦合金、鎳、哈氏合金、鋯及其復合材料等。加氫反應釜的主體材料、釜體、釜蓋上的開孔尺寸、數量、加熱方式、釜內結構、攪拌轉速、攪拌槳葉的形式均可根據用戶要求進行設計；加熱方式有夾套蒸汽、夾套導熱油電加熱、夾套油浴循環(huán)、遠紅外等形式供用戶訂貨時任意選配。加氫反應釜對有拋光要求的釜體內表面，可達到鏡面拋光水平，對高粘度的物料可加工成錐形底，便于放料、清洗。根據加氫反應釜的制造結構可分為開式平蓋反應釜、開式橢圓封頭式反應釜和閉式反應釜三大類，每一種結構都有它的適用范圍和優(yōu)缺點。
加氫反應釜技術參數 :
指標 項目 | 公稱容積 L | ||||||||||
50 | 100 | 200 | 300 | 500 | 1000 | 2000 | 3000 | 5000 | |||
內徑/內高 | 350/520 | 450/640 | 600/910 | 600/1290 | 800/1100 | 1000/1390 | 1200/2400 | 1300/3050 | |||
盤管傳熱面積㎡ | 0.2 | 0.5 | 0.8 | 1.0 | 1.2 | 2.5-4 | 4 | 5-8 | |||
工作壓力Mpa | -0.1-15.0Mpa | -0.1-10.0Mpa | |||||||||
夾套工作壓力 | 0.1-1.6Mpa | ||||||||||
工作溫度 ℃ | 室溫-300℃ | ||||||||||
加熱方式 | 夾套蒸汽、夾套導熱油電加熱管、遠紅外、夾套油循環(huán)等 | ||||||||||
攪拌轉速r/min | 20～1000r/min 可調 | ||||||||||
攪拌槳葉形式 | 推進式、槳式、錨式、渦輪式； | ||||||||||
電機功率 Kw | 0.55 | 0.75 | 1.1/3 | 3 | 3/4 | 5.5/7.5 | 7.5/11 | 11/15 | 15/18 | ||
釜蓋開口 | 攪拌口配磁力攪拌器，氣相口配球閥（進、排氣、抽真空用），液相口配球閥及釜內插底管（反應過程中可用來取樣或上出料用），加料口配盲板，測控溫口配保護管及鉑電阻，壓力表安全爆破口配壓力表及安全防爆裝置，釜內冷卻盤管進、出口配閥門。 開口可選配：釜底放料口配閥門，氣體取樣口配閥門及取樣器系統(tǒng)，液體取樣口配閥門及取樣器系統(tǒng)，進出口匹配單向閥，氣體進口配減壓閥，氣體出口配背壓閥，釜體釜蓋匹配觀察玻璃視窗，釜體液位計。 | ||||||||||
控制系統(tǒng) | 配具有自整定功能PID控溫表，控溫精度±1.5℃，具有釜內轉速顯示及無級調速功能，具加熱電壓可調功能，配有加熱電壓表、電機電流表、工作時間顯示表。連續(xù)操作控制系統(tǒng)：氣體增壓系統(tǒng)，液體加料系統(tǒng)，恒壓加料罐，接收及冷凝裝置，高壓分離裝置，質量流量控制系統(tǒng)，自動冷卻系統(tǒng)，壓力傳感器超壓報警，超溫報警斷電，計算機遠程控制、數據采集等。 | ||||||||||
主體材料 | 1Cr18Ni9Ti （ 321 ）、00Cr17Ni14MO 2 （ 316L ）、 0Cr18Ni9 （ 304 ）、鎳、鎳基合金（哈氏合金、蒙乃爾合金、因康鎳合金）、鈦、銅、鋯、鉭、鋁及其合金、雙相不銹鋼、聚四氟乙烯等 | ||||||||||
控制儀的工作環(huán)境 | 環(huán)境溫度 0～50 ℃，相對濕度為 30～85% ，周圍介質中不含導電塵埃及腐蝕氣體。 | ||||||||||
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