X射線光電子能譜分析儀(XPS)解決方案

測試原理：

XPS的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。被光子激發出來的電子稱為光電子。可以測量光電子的能量，以光電子的動能/束縛能（binding energy，Eb=hv光能量-Ek動能-w功函數）為橫坐標，相對強度（脈沖/s）為縱坐標可做出光電子能譜圖。從而獲得試樣有關信息。

1.  測試項目：全譜，精細譜，價帶譜，XPS深度刻蝕、微區XPS、

2.  樣品要求：（需提供樣品含有的元素，包括氧）

塊狀和薄膜樣品，需標記好測試面（表面平整，樣品干燥），長寬小于10mm，高度小于3mm(建議尺寸小于5×5×2mm，大尺寸樣品需確認)；（塊體/薄膜樣品表面請用乙醇擦拭干凈或抽真空來樣，接觸空氣容易受C，N，O，Si等元素污染） 

粉末樣品，不少于10mg(樣品需干燥)；

磁性樣品可測試，需在測試前溝通。

XPS深度刻蝕需提供：提供詳細測試過程，刻蝕要求。如刻蝕能量、刻蝕次數、單次刻蝕時間等要求，如2kV能量，速率0.1nm/s，單次刻蝕300s后，總計刻蝕4次，采集刻蝕前、后的譜圖；

微區XPS需提供：測試區域200~300um或100~200um或50~100um或10~50um

3.  應用范圍：用于各種有機和無機固體材料的表面元素和其價態的定性，定量分析，可用于腐蝕，摩擦，浸潤，粘接，催化，包覆，氧化等表面和界面過程的研究。

定性：元素種類及價態信息（可以分析除H和He以外的所有元素）

定量：半定量，屬于表面靈敏型測試

成像：元素XPS二維成像