詳細摘要: AMAT二手金屬化學氣相沉積設備CenturaAPISPRINT,針對于300nm晶圓,主機類型為CenturaAP,工藝采用WCVD,擁有4個腔室,3個裝載端...
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-14 在線留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
詳細摘要: AMAT二手金屬化學氣相沉積設備CenturaAPISPRINT,針對于300nm晶圓,主機類型為CenturaAP,工藝采用WCVD,擁有4個腔室,3個裝載端...
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-14 在線留言詳細摘要: AMAT等離子化學氣相沉積PECVD設備producerse,生產于2003年,采用PETEOS工藝,針對12英寸(300mm)晶圓處理
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-14 在線留言詳細摘要: ASM二手化學氣相沉積PECVD設備Dragon2300生產于2003年,針對12寸(300nm)晶圓處理
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-14 在線留言詳細摘要: ASM二手化學氣相沉積CVD設備Eagla10采用DARC流程工藝,針對于8英寸晶圓的處理,現貨供應
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-14 在線留言詳細摘要: novellus化學氣相沉積mocvd設備vectorexpress,購買于2004年,針對12英寸晶圓設計使用
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-14 在線留言詳細摘要: CanonAnelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用,適用于12英寸晶圓
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-12 在線留言詳細摘要: SAMCO二手刻蝕機PD-3800現貨供應,2011年設備,PECVD系統,可對2-6英寸晶圓進行加工處理,已打包封裝完成,隨時發貨
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-05 在線留言詳細摘要: AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應沉積薄膜,實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率
產品型號:所在地:更新時間:2022-05-27 在線留言詳細摘要: PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的鎖載等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統
產品型號:所在地:更新時間:2022-05-27 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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