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                                                                        詳解磁控濺射技術2023/3/22
                                                                    
        
								
        
																			一、磁控濺射的工作原理：磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。磁控濺射的工作原理是：在高真空的條件下充入適量的...
																	
        
							
        
														 							
        
								
        
                                                                        NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)有什么優(yōu)勢2022/7/28
                                                                    
        
								
        
																			我們的優(yōu)勢｜NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)，用于高速刻蝕硅、SiO2和Si3N4基片，通過配套HCP高密度中空陰極等離子源，系統(tǒng)可以支持...
																	
        
							
        
														 							
        
								
        
                                                                        NLD4000型原子層沉積案例解析2022/7/25
                                                                    
        
								
        
																			NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強原子層沉積系統(tǒng)可以提供高品質的薄膜沉積，通過配套ICP離子源系統(tǒng)可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應用。眾多的優(yōu)勢配置，使得NLD-4000型系統(tǒng)具...
																	
        
							
        
														 							
        
								
        
                                                                        我們的優(yōu)勢｜離子束刻蝕2022/7/25
                                                                    
        
								
        
																			我們的優(yōu)勢｜離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強的適應性，可以根據(jù)不同的應用建立不同的結構，不同的樣品臺和離子源配置可實現(xiàn)不同的應用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實現(xiàn)正負90°傾斜、旋轉、水...
																	
        
							
        
														 							
        
								
        
                                                                        帶你一文領略磁控濺射2022/7/25
                                                                    
        
								
        
																			主要功能：主要用于半導體應用，及各種需要進行微納工藝濺射鍍膜的情形。可以用于金屬材料（金、銀、銅、鎳、鉻等）的直流濺射、直流共濺射，絕緣材料（如陶瓷等）的射頻濺射，以及反應濺射能力。基片可支持硅片，氧...
																	
        
							
        
													  												
						
						
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