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應(yīng)用領(lǐng)域：等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
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