CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...

CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片...

紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。

等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面，從而實現...

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿存儲儀采用無油隔膜泵，通過抽真空產生100 Pa恒定潔凈無污染的真空環境，特別適用于TEM透射電鏡樣品桿的日常真空儲存或水汽去除...

CIF透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用雙等離子清洗源設計，自動切換，一機多用，清洗快速高效。遠程等離子體清洗快速高效低轟擊損傷，同時可實現常規等離子清洗。主要...

CIF 掃描電鏡（SEM）等離子清洗機采用遠程、原位雙等離子清洗源設計，并可自動切換，一機多用。遠程等離子體清洗快速高效低轟擊損傷，同時可實現常規等離子清洗。主...

等離子體作用在粉體上，可以有目的地改變粉體的物理化學性質，在保持粉體原有性能的前提下，賦予其表面新的性能，使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水性變為疏水性，從...

等離子清洗設備就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面，從而實...

等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面，從而實現...

真空等離子清洗機是美國 CIF公司所生產的不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬，產品性能穩定可靠。主要核心部件全部采用*。是實驗室*儀器之一，配有真空泵裝置，提高...

等離子清洗機工作原理等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清...