電子束刻蝕系統(tǒng)

摘要 IBE離子束刻蝕系統(tǒng)北京特博代理美國(guó)IBE離子束刻蝕系統(tǒng)--功能強(qiáng)大----科研

摘要 上海伯東日本*小型 Hakuto 離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.

摘要 上海伯東日本*適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的 Hakuto 離子刻蝕機(jī), 樣品臺(tái)可選直接冷卻 / 間接冷卻

摘要 上海伯東日本*適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J

摘要 上海伯東日本*適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 無(wú)污染, 內(nèi)部使用美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測(cè)當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.

摘要 Leica EM ACE900 冷凍斷裂系統(tǒng)在一臺(tái)儀器中對(duì)樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。通過(guò)旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺(tái)，利用電子束進(jìn)行高分辨率碳/金屬?gòu)?fù)合鍍膜，適用于任何TEM和SEM分析，可提供靈活的投影選擇。

摘要 刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蝕設(shè)備，該設(shè)備可以為PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蝕提供解決方案，有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。

摘要 NMC 508RIE介質(zhì)刻蝕機(jī)為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī)，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機(jī)臺(tái)為多腔室集群設(shè)備，可全自動(dòng)并行工藝、易維護(hù)、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能高、客戶擁有成本低。

摘要NMC 508M金屬刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為多腔室集群設(shè)備，含金屬腔和去膠腔組合，可全自動(dòng)并行工藝，PM維護(hù)周期長(zhǎng)，性能穩(wěn)定，產(chǎn)能高，客戶擁有成...

摘要NMC 508CG多晶硅刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為多腔室集群設(shè)備，可全自動(dòng)并行工藝，易維護(hù)、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能高、客戶擁有成本低 。已廣泛量產(chǎn)應(yīng)用...

摘要JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為（計(jì)算值）2.1nm的電子束，簡(jiǎn)便地描畫(huà)出線寬在8nm以下（實(shí)際可達(dá)5nm）的圖形。此外，該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場(chǎng)拼接精度和套刻精度，性能比。利用最細(xì)電子束束斑（實(shí)測(cè)值直徑≦2.9nm）...

摘要 JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。

摘要 JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)?

摘要 JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)。

摘要 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過(guò)的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫(xiě)速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。

摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全，且工藝穩(wěn)定重復(fù)...

摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全，且工藝穩(wěn)定重復(fù)...

摘要 二手刻蝕機(jī)OXFORDPLASMALAB800PLUS，反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（RIE），可對(duì)尺寸為5英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

摘要 OXFORDIONFAB300PLUS二手刻蝕設(shè)備，多模式離子束刻蝕系統(tǒng)，可對(duì)4-8英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

摘要 OXFORDNGP1000TR二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨，2011年設(shè)備，隨時(shí)可以發(fā)貨

摘要 OXFORDPLASMALAB二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)，反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備，隨時(shí)發(fā)貨

摘要 OXFORDPLASMALAB133二手刻蝕機(jī)，2006年RIE干法蝕刻設(shè)備

摘要 二手刻蝕機(jī)OXFORDPLASMALAB80PLUS，RIE蝕刻系統(tǒng)，2003年設(shè)備，可對(duì)8英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

摘要 OXFORDPLASMALAB90PLUS二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨，RIE刻蝕系統(tǒng)，打包封裝完成，隨時(shí)可以發(fā)貨

摘要 MATTSONASPENII二手刻蝕機(jī)，1995年設(shè)備，雙室ICP刻蝕系統(tǒng)，已打包封裝完成，可隨時(shí)發(fā)貨

摘要 MATTSON二手刻蝕機(jī)ASPENIII，2006年設(shè)備，lightetcher，可對(duì)12英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

摘要 MATTSONASPENIIINEXION二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨,已經(jīng)拆解并打包封裝完成，隨時(shí)可以發(fā)貨，支持技術(shù)修改、調(diào)試和售后維修

摘要 二手刻蝕機(jī)MATTSONPARADIGM，PRAsher設(shè)備，雙工作腔室，可對(duì)尺寸為12英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理，已拆卸和打包完成，可隨時(shí)發(fā)貨

摘要 MATTSONPARADIGMEE二手刻蝕機(jī)，打包封裝完成，隨時(shí)可以發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機(jī)MATTSONPARADIGMESI，2011年設(shè)備，可對(duì)尺寸為12英寸的晶圓進(jìn)行刻蝕工藝加工處理

摘要 二手刻蝕機(jī)MATTSONSUPREMAIM，2012年設(shè)備，可對(duì)12英寸大小的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIX102/105,打包封裝完成，隨時(shí)發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨MATRIX105，Plasmaasher設(shè)備，可對(duì)尺寸大小為6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

摘要 二手刻蝕機(jī)MATRIX205，采用干法刻蝕，可對(duì)6英寸大小的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

摘要 MATRIX303二手刻蝕機(jī),等離子氧化刻蝕系統(tǒng)，可對(duì)尺寸為2~6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

摘要 MATRIXCHEETAH200刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨，Plasmaasher設(shè)備，正常運(yùn)行，打包封裝完成，可隨時(shí)發(fā)貨

摘要 MATRIXJAGUAR300MM刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨供應(yīng)，2000年設(shè)備，可對(duì)尺寸大小為12英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

摘要 MATRIXPLATEMATEPLUS二手刻蝕機(jī)，打包封裝完成，隨時(shí)可以發(fā)貨

摘要 MATRIXSYSTEM10二手刻蝕機(jī)，反應(yīng)離子刻蝕RIE、Plasmaasher雙模式，可對(duì)6-8英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

摘要 MATRIX二手刻蝕機(jī)SYSTEMONE，Plasmaasher設(shè)備，可對(duì)6英寸大小的晶圓進(jìn)行加工處理

摘要 二手刻蝕機(jī)MATRIXSYSTEMONE103，可對(duì)50mm~150mm尺寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIXSYSTEMONE106，1995年設(shè)備，可對(duì)4-6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年設(shè)備，可對(duì)尺寸為5英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

摘要 刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨供應(yīng)AXCELIS/FUSION200ACU，2004年asher設(shè)備，可對(duì)8英寸的晶圓進(jìn)行工藝處理

摘要 AXCELIS/FUSION200MCU二手刻蝕機(jī)，1993年設(shè)備，可對(duì)8英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理