電子束曝光技術(shù)是在計(jì)算機(jī)控制下,按照加工要求的圖形,利用聚焦后的電子束對(duì)基片上的抗蝕劑進(jìn)行曝光,在抗蝕劑中產(chǎn)生具有不同溶解性能的區(qū)域,根據(jù)不同區(qū)域的溶解特性,利用具有選擇性的顯影劑進(jìn)行顯影,溶解性強(qiáng)的抗蝕劑部分被去除,溶解性差或不溶的部分保留下來(lái),就可以得到所需要的抗蝕劑圖形。正文編輯區(qū)域參考資料編輯區(qū)域
查看詳情電子束曝光技術(shù)是在計(jì)算機(jī)控制下,按照加工要求的圖形,利用聚焦后的電子束對(duì)基片上的抗蝕劑進(jìn)行曝光,在抗蝕劑中產(chǎn)生具有不同溶解性能的區(qū)域,根據(jù)不同區(qū)域的溶解特性,利用具有選擇性的顯影劑進(jìn)行顯影,溶解性強(qiáng)的抗蝕劑部分被去除,溶解性差或不溶的部分保留下來(lái),就可以得到所需要的抗蝕劑圖形。正文編輯區(qū)域參考資料編輯區(qū)域
查看詳情摘要 上海伯東日本*小型 Hakuto 離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
在線詢價(jià)摘要 上海伯東日本*適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 無(wú)污染, 內(nèi)部使用美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測(cè)當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
在線詢價(jià)摘要 Leica EM ACE900 冷凍斷裂系統(tǒng)在一臺(tái)儀器中對(duì)樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。通過(guò)旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺(tái),利用電子束進(jìn)行高分辨率碳/金屬?gòu)?fù)合鍍膜,適用于任何TEM和SEM分析,可提供靈活的投影選擇。
在線詢價(jià)摘要 刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蝕設(shè)備,該設(shè)備可以為PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蝕提供解決方案,有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。
在線詢價(jià)摘要 NMC 508RIE介質(zhì)刻蝕機(jī)為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī),適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝,具有高刻蝕速率和均勻性,工藝類型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機(jī)臺(tái)為多腔室集群設(shè)備,可全自動(dòng)并行工藝、易維護(hù)、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能高、客戶擁有成本低。
在線詢價(jià)摘要NMC 508M金屬刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī),適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為多腔室集群設(shè)備,含金屬腔和去膠腔組合,可全自動(dòng)并行工藝,PM維護(hù)周期長(zhǎng),性能穩(wěn)定,產(chǎn)能高,客戶擁有成...
在線詢價(jià)摘要NMC 508CG多晶硅刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī),適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為多腔室集群設(shè)備,可全自動(dòng)并行工藝,易維護(hù)、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能高、客戶擁有成本低 。已廣泛量產(chǎn)應(yīng)用...
在線詢價(jià)摘要JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為(計(jì)算值)2.1nm的電子束,簡(jiǎn)便地描畫(huà)出線寬在8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)的圖形。此外,該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場(chǎng)拼接精度和套刻精度,性能比。利用最細(xì)電子束束斑(實(shí)測(cè)值直徑≦2.9nm)...
在線詢價(jià)摘要 JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
在線詢價(jià)摘要 JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)?
在線詢價(jià)摘要 JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)。
在線詢價(jià)摘要 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過(guò)的設(shè)計(jì)優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作,更快的刻寫(xiě)速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節(jié)能。
在線詢價(jià)摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng),它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)...
在線詢價(jià)摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng),它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案,獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)...
在線詢價(jià)摘要 MATTSONASPENIIINEXION二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨,已經(jīng)拆解并打包封裝完成,隨時(shí)可以發(fā)貨,支持技術(shù)修改、調(diào)試和售后維修
在線詢價(jià)摘要 二手刻蝕機(jī)MATTSONPARADIGM,PRAsher設(shè)備,雙工作腔室,可對(duì)尺寸為12英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理,已拆卸和打包完成,可隨時(shí)發(fā)貨
在線詢價(jià)摘要 MATRIXJAGUAR300MM刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨供應(yīng),2000年設(shè)備,可對(duì)尺寸大小為12英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理
在線詢價(jià)摘要 刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨供應(yīng)AXCELIS/FUSION200ACU,2004年asher設(shè)備,可對(duì)8英寸的晶圓進(jìn)行工藝處理
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