特點
· 低壓等離子系統,用于不同材料表面的處理
· 配置自動/手動模式,實現控制高機能
· 10.5L腔體可處理多種樣品
· 適合于研究院、高校、研發中心使用
· 8” Wafer去膠清洗

技術規格:
| 型號 | ATTO | ATTO PCCE | |
| 控制系統 | 手動控制 | PCCE 控制系統 | |
| 工藝氣路 | 雙路氣體 | ||
| 工藝氣體 | O2,Ar,N2,CO2,H2,Air等 | ||
| 單體導入 | H2O等單體(選配) | ||
| 流量計 | 針閥流量計 | MFC流量計 | |
| 真空 腔體 | 材質 | 高硼硅玻璃腔體,蓋子門帶觀察窗(石英,鉸鏈門選配) | |
| 內尺寸(Dia.×D) | 211×300mm | ||
| 容積 | 10.5L | ||
| 電極 | 360度外置環繞電極 | ||
| 發生器*
| 40KHz 0~200 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W | ||
| 真空壓力計 | 指針式壓力計(選購) | 皮拉尼數字式壓力計 | |
| 計時器 | 旋鈕式(選購) | 數字式 | |
| 托盤 | 高硼硅玻璃(石英選配)W200xD260xH5mm | ||
| 外形尺寸(WXDxH)mm | 525x450xD450 | ||
| 電源 | AC220V 50Hz 10A | ||
| 真空泵 | 排氣速度8m3/H | ||




























